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日本stil線陣視覺檢測系統MC2
MC2線陣視覺檢測系統完美地解決了傳統機器視覺在表面瑕疵檢測的痛點，具有明顯的優勢：
v 無需外接光源照明，光譜共焦傳感器的光源即為檢測所需的同軸光源；
v 環境光線的變化不影響成像效果，適應性強；
v 適應所有的物體表面，無論是漫反射表面，鏡面（高光面）或者透明物體表面；
v 高達80KHz的掃描速度，并可實現非常低的像素尺寸(小像素可達0.2×0.2μm2)；
v gao可至2.6mm的高景深，在景深范圍內的任何一個位置都是完美聚焦，成像更為清晰且無需進行Z軸對焦。
優勢：
v 無需外接光源照明，光譜共焦傳感器的光源即為檢測所需的同軸光源；
v 環境光線的變化不影響成像效果，適應性強；
v 適應所有的物體表面，無論是漫反射表面，鏡面（高光面）或者透明物體表面；
v 高達80KHz的掃描速度，并可實現非常低的像素尺寸(小像素可達0.2×0.2μm2)；
v gao可至2.6mm的高景深，在景深范圍內的任何一個位置都是完美聚焦，成像更為清晰且無需進行Z軸對焦。
日本stil線陣視覺檢測系統MC2
| MC2四種鏡頭配置參數: | |||||||||
| 產品型號 | MC2-701-N1 | MC2-702-N1 | MC2-703-N1 | MC2-704-N1 | MC2-705-N1 | MC2-706-N1 | MC2-707-N1 | MC2-708-N1 | |
| 示例 | unit | NanoView 2K | NanoView 4K | MicroView 2K | MicroView 4K | DeepView 2K | DeepView 4K | WireView 2K | WireView 4K |
| 線長 | mm | 1.35 | 1.8 | 4 | 1.5 | ||||
| 景深 | µm | 100 | 500 | 2600 | 900 | ||||
| 工作距離 | mm | 4.6 | 10 | 47.8 | 7.8 | ||||
| 放大率 | 17.3 | 12.5 | 5.6 | 15.6 | |||||
| 數值孔徑 | 0.7 | 0.5 | 0.35 | 0.75 | |||||
| 大樣本斜率 | ° | 40 | 30 | 20 | 46 | ||||
| 樣本像素大小 | µm | 0.82 | 0.41 | 1.12 | 0.56 | 2.5 | 1.23 | 0.9 | 0.45 |
| 光學頭: 長度 | mm | 413.8 | 393.3 | 402.6 | 382.1 | 422.9 | 403.9 | 457.7 | 437.2 |
| 光學頭: 直徑 | mm | 50 | 50 | 75 | 70 | ||||
| 光學頭: 重量 | g | - | - | - | - | - | - | ||
